Improvement of Uniformity of Photoresist Ashing for a Half-Inch Wafer with Double U-Shaped Antenna Structure using a Microwave Excited Water Vapor Plasma

FBH-Institutskolloquium: 20.06.2025

Mikrofon vor unscharfem Hintergrund, neben dem Text "FBH seminar". Das Bild vermittelt den Eindruck einer Präsentation oder eines Vortrags.

In diesem Institutskolloquium präsentieren Wissenschaftler*innen neueste Forschungsergebnisse zu folgendem Thema:

Improvement of Uniformity of Photoresist Ashing for a Half-Inch Wafer with Double U-Shaped Antenna Structure using a Microwave Excited Water Vapor Plasma
Prof. Tatsuo Ishijima, Kanazawa University Japan

Die Veranstaltung findet am 20.06.2025 von 11:00 bis 12:00 Uhr im Ferdinand-Braun-Institut, Gustav-Kirchhoff-Str. 4, 12489 Berlin, Seminarraum 1 + 2 statt.

Herzlich willkommen!