Applikationslabor III/V-Komponenten für Lasertechnik und Elektronik

Seit vielen Jahren transferiert das FBH seine Forschungsresultate erfolgreich an Unternehmen der Wirtschaft, insbesondere in Berlin und Brandenburg. Auf diese Weise hat es eine umfassende Kompetenz in diesem Bereich etabliert. Im Rahmen des Applikationslabors „III/V-Komponenten für Lasertechnik und Elektronik“ soll nun der Reifegrad der verfügbaren Technologien erhöht und damit das Leistungsspektrum des FBH noch stärker in Richtung der industriellen Anwendung entwickelt werden. Von Oktober 2017 bis Ende 2020 fließen insgesamt 4,62 Millionen Euro Fördermittel aus dem Europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE) an das FBH.

  • Prozessierung von Wafern im Reinraum des FBH
    [+] Prozessierung von Wafern im Reinraum des FBH
  • Prozessierter Wafer mit monolithisch-integrierten InP-HBT-Schaltungen
    [+] Prozessierter Wafer mit monolithisch-integrierten InP-HBT-Schaltungen
  • GaAs-Hochleistungs-Breitstreifenlaser, Einzelemitter auf CCP-Mount
    [+] GaAs-Hochleistungs-Breitstreifenlaser, Einzelemitter auf CCP-Mount

Das Projekt umfasst sowohl Investitionen zum Ausbau der technologischen Infrastruktur als auch Halbleiter-Technologie-Runs, um die Anlagen einzufahren und die Stabilität der Prozesse zu erhöhen. Zum einen soll die Epitaxie-Basis mit einem Multi-Wafer-Reaktor für GaAs-Laserdioden und der zugehörigen Analysetechnik erweitert werden. Zum anderen werden Halbleiterprozesse für GaAs-Laser sowie für die GaN- und InP-Elektronik weiterentwickelt. Außerdem soll die Digitalisierung des Reinraums vorangetrieben werden. Dazu werden die Prozesssteuerung und Datenerfassung auf eine elektronische Version umgestellt. Hinzu kommt der Ausbau der Aufbau- und Verbindungstechnik für Laserdioden und Elektronik-Chips.