Masken und Reticles
Das FBH bietet seinen Kunden die Herstellung von chrombeschichteten Masken aus Quarzglas mittels Elektronenstrahllithographie an:
- Belichtungsanlage
- Vistec SB251
- Variabler Formstrahl
- 50 kV Beschleunigungsspannung
- Image placement (multipoint alignment): 27 nm max. dev.
- Overlay Genauigkeit (mask to mean, two-point alignment): 25 nm max. dev.
- Mask centrality: 150 nm max. dev.
- Substrate
- Kontaktmasken für Maskaligner
- Reticle für Projektionslithographie
- Standardmasken 4“, 5“ und 6"
- Antireflektive Chrombeschichtung, 100 nm dick, nasschemisch geätzt
- Positivlack für hohe Auflösung (< 1 µm)
- Negativlack für schnelle Schreibzeiten
- CAD-Formate
- GDSII
- DXF (Autocad)
- Konvertierung im Verhältnis 1:1 oder anderen
