Das FBH bietet seinen Kunden die Herstellung von chrombeschichteten Masken aus Quarzglas mittels Elektronenstrahllithographie an:

• Belichtungsanlage
  • Vistec SB251
  • Variabler Formstrahl
  • 50 kV Beschleunigungsspannung
  • Image placement (multipoint alignment): 27 nm max. dev.
  • Overlay Genauigkeit (mask to mean, two-point alignment): 25 nm max. dev.
  • Mask centrality: 150 nm max. dev.

• Substrate
  • Kontaktmasken für Maskaligner
  • Reticle für Projektionslithographie
  • Standardmasken 4“, 5“ und 6"
  • Antireflektive Chrombeschichtung, 100 nm dick, nasschemisch geätzt
  • Positivlack für hohe Auflösung (< 1 µm)
  • Negativlack für schnelle Schreibzeiten

• CAD-Formate
  • GDSII
  • DXF (Autocad)
  • Konvertierung im Verhältnis 1:1 oder anderen