UV-Halbleiterlasersysteme für lithographische Anwendungen

Mit der rasanten Entwicklung von Galliumnitrid-basierten Halbleiterlasern, ergibt sich die Möglichkeit einer kompakten und wartungsarmen Laserlichtquelle hoher Brillanz im nahen UV. 
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Quelle: www.photonikforschung.de, August 2014