Neue Elektronenstrahl-Belichtungsanlage am FBH

Im Juni 2010 wurde die neue Elektronenstrahl-Belichtungsanlage (E-Beam) SB251 der Firma VISTEC dem FBH termingerecht übergeben. Die Formstrahl-Anlage erlaubt Belichtungen mit einer Präzision von unter 50 nm auf bis zu 8-Zoll-Wafern und ist eines der zentralen Geräte für die Bauelementeentwicklung nach dem neuesten technologischen Stand.

Unter anderem wurde die Leistungsfähigkeit der Anlage für Gatetechnologien von Hochleistungstransistoren und für Gittertechnologien optoelektronischer Bauelemente nachgewiesen. Basierend auf der FBH-Technologie wurden durch Metall-Lift-off 50 nm breite Metallstreifen erzeugt und T-Gates mit 150 nm Fußbreite sicher nachgewiesen. Gitterstrukturen mit 70 nm Linienbreite ("lines and spaces") wurden mit einem Standard-Lackprozess des FBH erzeugt.

Vor dem Einbau der Ebeam mussten zunächst die anspruchsvollen Betriebsvoraussetzungen in Bezug auf Temperaturstabilität, elektromagnetische Wechselfelder und mechanische Schwingungen geschaffen werden. Dafür waren umfangreiche Umbauten im Herbst 2009 nötig: der Reinraum wurde stillgelegt um ein neues Fundament zu errichten und die Klimaanlage zu modernisieren. Geliefert wurde die Anlage Anfang Dezember 2009 und in den Reinraum eingebracht. Bereits im April 2010 war die SB251 vollständig betriebsbereit und wurde seitdem regelmäßig zum Belichten von Lithographiemasken eingesetzt.

FBH-Forschung: 16.07.2010