Masken und Reticles

Das FBH bietet seinen Kunden die Herstellung von chrombeschichteten Masken aus Quarzglas mittels Elektronenstrahllithographie an:

E-Beam
Elektronenstahlbelichtungsanlage Vistec SB251
Cr-Maske auf Quarzglas
Cr-Maske auf Quarzglas
  • Belichtungsanlage
    • Vistec SB251
    • Variabler Formstrahl
    • 50 kV Beschleunigungsspannung
    • Image placement (multipoint alignment): 27 nm max. dev.
    • Overlay Genauigkeit (mask to mean, two-point alignment): 25 nm max. dev.
    • Mask centrality: 150 nm max. dev.
  • Substrate
    • Kontaktmasken für Maskaligner
    • Reticle für Projektionslithographie
    • Standardmasken 4“, 5“ und 6"
    • Antireflektive Chrombeschichtung, 100 nm dick, nasschemisch geätzt
    • Positivlack für hohe Auflösung (< 1 µm)
    • Negativlack für schnelle Schreibzeiten
  • CAD-Formate
    • GDSII
    • DXF (Autocad)
    • Konvertierung im Verhältnis 1:1 oder anderen