Masken und Reticles

Das FBH bietet seinen Kunden die Herstellung von chrombeschichteten Masken aus Quartzglas mittels Elektronenstrahllithographie an:

• Belichtungsanlage
  • Vistec ZBA 23
  • Variabler Formstrahl, Vectorscan, Step and Repeat
  • 20/40 kV Beschleunigungsspannung
  • 50 nm Adressgrid

• Substrate
  • Kontaktmasken für Maskaligner
  • Reticle für Projektionslithographie
  • Standardmasken 4“ x 4“ x 0,09“ und 5“ x 5“ x 0,09“
  • Antireflektive Chrombeschichtung, 100 nm dick, nasschemisch geätzt
  • Positivlack für hohe Auflösung (< 1 µm)
  • Negativlack für schnelle Schreibzeiten

• CAD-Formate
  • GDSII
  • DXF (Autocad)
  • Konvertierung im Verhältnis 1:1 oder anderen