Step-Stress-Test
On-Wafer Stufen-Stress-Tests bis zur Degradationsschwelle von GaN HEMT
On-Wafer Messplatz
On-Wafer Messplatz zur Durchführung von schnellen Degradationstests
Testfassung für GaN-Powerbars
Testfassung für GaN-Powerbars mit Beschaltung zur Vermeidung von parasitären Schwingungen

Lebensdauermesstechnik

Die Charakterisierung der Lebensdauer und die Analyse von Ausfallmechanismen sind ein wesentlicher Bestandteil der Entwicklung von GaN-Bauelementen.

Testsequenz

  • Tests zur Vorselektion von Bauelementen:
    • Aussondern von Bauelementen mit Frühausfällen
  • On-Wafer Stresstests zur Erfassung der Robustheit der Bauelemente: 
    • Stufenförmig erhöhte Stressbedingungen bis zur Degradationsschwelle
  • DC- und RF-Langzeit-Lebensdauertests:
    • Langzeit-Lebensdauertests bei verschieden Kanaltemperaturen und Arbeitspunkten
    • Bestimmung der extrapolierten Lebensdauer

Technische Ausstattung

  • 2 On-Wafer Messplätze zur Durchführung von Zuverlässigkeitsuntersuchung für jeweils 5 Transistoren
  • Langzeit DC-Testeinrichtungen zur Durchführung thermisch und elektrisch aktivierter Lebensdauertests mit 142 Messplätzen, bis 1100 V Betriebsspannung und 50 W Verlustleistung pro Testobjekt
  • Hochfrequenz-Lebensdauermessplatz für L- und X-Band, 8 Messplätze, Verlustleistung bis 200 W pro Testobjekt

Ansprechpartner

Dr.-Ing. Joachim Würfl
 Tel. +49.30.6392-2690
 Fax +49.30.6392-2685
 E-Mail joachim.wuerfl(at)fbh-berlin.de